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氮化鋁應用於光電工程,包括在光學儲存介面及電子基質作誘電層,在高的導熱性下作晶片載體,以及作軍事用途。
高熱導率,為氧化鋁之7~8倍,熱膨脹係數接近矽晶圓。高絕緣阻抗,高機械強度及密度,成分穩定性佳。
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氮化鋁應用於光電工程,包括在光學儲存介面及電子基質作誘電層,在高的導熱性下作晶片載體,以及作軍事用途。
高熱導率,為氧化鋁之7~8倍,熱膨脹係數接近矽晶圓。高絕緣阻抗,高機械強度及密度,成分穩定性佳。
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